CIP在位清洗系统

CIP在位清洗系统是生产中卫生标准的前提条件之一，它可以消除活性成分交叉污染，消除异物不溶性微粒。降低或消除微生物及热源对的污染。CGMP要求尽力推荐制药工业使用CIP在位清洗系统。产品具有自动化程度高、操作简便，清洗彻底、安全性高、价格合理等优点。

CIP清洗系统是指设备（罐体、管道、泵、过滤器等）及整个生产线在*人工拆卸或打开的前提下，在一个预定时间内，将一定温度的清洁液通过密闭的管道对设备内表面进行喷淋循环而达到清洗的目的，特称CIP在线清洗系统（Cleaning in place）。一个稳定的CIP在线清洗系统在于优良的设计，包括设备、管道、操作规程、清洗剂配方、自动控制和监控要求的一整套技术系统等。根据清洗系统的实际情况，确定合适的清洗程序，包括清洗条件确定，清洗剂选择、回收设计。并对清洗过程中关键参数和条件（如时间、温度、流量、电导率）的记录、打印，做为设备清洗过程的验证。